Gas Permeation through Nafion. Part 2: Resistor Network Model

Washington, DC / American Chemical Society (2015) [Fachzeitschriftenartikel]

The journal of physical chemistry / C
Band: 119
Ausgabe: 45
Seite(n): 25156-25169

Autorinnen und Autoren

Schalenbach, Maximilian
Hoeh, Michael A.
Gostick, Jeff T.
Lueke, Wiebke
Stolten, Detlef